设备名称： IBS离子束溅射镀膜设备
设备型号： IBD XPUTTER
设备特点
1.双离子束+等离子体复合沉积系统
2.全自主研发智能控制软件系统
3.膜层粗糙度、致密度、牢固度、硬度等指标优异
4.多面旋转靶材＋行星工件盘结构
5.全工件架范围薄膜均匀度控制在±0.5%以内
6.可选配全自主的光控系统
工艺应用
1.高抗损强激光膜 2.多带通窄带滤光片3.超硬超光滑膜4.柔性透明导电膜5.超低反射膜6.超致密复合功能膜等
应用领域
激光/光通信/航天军工/生化医疗/车载光学/MEMS传感器/泛半导体等
